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BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

更新時(shí)間:2025-10-30      點(diǎn)擊次數(shù):227


納米粒度儀通過(guò)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)DLS檢測(cè)均勻穩(wěn)定樣品的粒徑和粒徑分布。DLS的最佳檢測(cè)范圍在幾納米至亞微米范圍。DLS技術(shù)無(wú)法有效檢測(cè)大顆粒的原因之一是大顆粒通常具有一定的沉降行為,這對(duì)動(dòng)態(tài)光散射的準(zhǔn)確性造成極大的影響。然而對(duì)于一些具有沉降特征的顆粒,可以利用其沉降行為進(jìn)行粒度測(cè)試。


BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑


BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀中在0°角設(shè)置一個(gè)PD檢測(cè)器,通過(guò)檢測(cè)透射光的光強(qiáng)隨時(shí)間的變化,檢測(cè)沉降樣品的粒度和粒度分布信息。沉降法粒度測(cè)試的適合范圍在幾微米至幾十微米,可有效彌補(bǔ)動(dòng)態(tài)光散射對(duì)大顆粒檢測(cè)的限制。

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑


在這篇應(yīng)用報(bào)告中,使用百特BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀、BetterPyc 380多功能真密度儀、Bettersize 2600激光粒度分析儀檢測(cè)了一種硅酸鋯粉末的粒度信息。

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑
BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑


原理

BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀基于透射光路檢測(cè)樣品的透射光強(qiáng)度,然后基于斯托克斯方程:


BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

計(jì)算體系的粒徑和粒徑分布信息,測(cè)試需要對(duì)應(yīng)溫度下分散介質(zhì)的折射率、密度和粘度信息、對(duì)應(yīng)溫度下顆粒物的折射率和密度和樣品體積。


實(shí)驗(yàn)

樣品信息如下:

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

    

其中樣品密度通過(guò)BetterPyc 380多動(dòng)能真密度儀檢測(cè),樣品的粒徑分別通過(guò)BeNano 180 Zeta Max納米粒度及Zeta電位分析儀和Bettersize 2600激光粒度分析儀檢測(cè)。


結(jié)果分析和結(jié)論

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

圖1. 沉降法信號(hào)(上圖)和沉降法粒度分布(下圖)


表1. 沉降法3次測(cè)試結(jié)果

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑


BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

圖2. Bettersize 2600激光粒度分析儀分布結(jié)果


表2. 沉降法和激光粒度儀典型值對(duì)照表

BeNano 180 Zeta Max沉降法檢測(cè)硅酸鋯粒徑

由測(cè)試結(jié)果可以看出,通過(guò)沉降法得到的結(jié)果具有較好的重復(fù)性,D50相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差優(yōu)于5%,沉降法得到的分布結(jié)果和激光粒度分析儀具有較好的可比性。



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